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本发明公开了一种红外焦平面探测器的制作方法，通过在p型基体上表面设置钝化层；透过所述钝化层对所述p型基体进行整面注入，得到连续的n型掺杂层；在所述钝化层表面光刻隔离槽图形，并根据所述隔离槽图形，刻蚀得到穿透所述钝化层及所述n型掺杂层，且底面与所述p型基体接触的图形化的隔离槽，制得红外焦平面探测器；其中，所述n型掺杂层包括多个被所述隔离槽分隔的探测像元。本发明通过隔离槽从空间上分隔相邻的探测像元，避免了探测像元间的串音现象，提升了探测器的探测精度，保障了信号强度，本发明不需要通过光刻胶层进行离子注
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113013188 A
(43)申请公布日 2021.06.22
(21)申请号 202110201569.4
(22)申请日 2021.02.23
(71)申请人 北京智创芯源科技有限公司
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