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本发明公开了一种半导体加工用热压装置,属于半导体加工技术领域,包括清洗装置、升降装置、推送装置、第一烘干装置、旋转装置、上料装置、自动涂胶机、自动热压机和第二烘干装置,所述清洗装置竖直安装在地面上,升降装置水平安装在清洗装置的内部,推送装置竖直安装在地面上,第一烘干装置安装在清洗装置一端的顶部,旋转装置竖直安装在地面上,上料装置竖直安装在地面上,自动涂胶机位于上料装置的旁侧,自动热压机竖直安装在地面上,第二烘干装置竖直安装在地面上,本发明通过当水输送至安装箱内时可以对半导体进行清洗,去除半导体上
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112992742 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 202110359608.3
(22)申请日 2021.04.02
(71)申请人 合肥高地创意科技有限公司
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