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本发明提供基板处理装置和载置台。在利用具有贯通孔的载置台对载置于该载置台的基板进行加热、冷却的情况下改善基板的温度的面内均匀性。用于对基板进行处理的基板处理装置包括：具有沿上下方向贯通的贯通孔的载置台，其上表面供基板载置并对基板进行加热和/或冷却；贯穿于贯通孔的基板支承销；构成为能够支承基板支承销的支承构件，基板支承销具有：构成为能够经由贯通孔自载置台的上表面突出的突出部；位于突出部的下方并形成得比突出部粗的大径部，载置台还具有形成为自载置台的侧面延伸并与贯通孔相交、供支承构件插入的横孔，在支承
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112992769 A
(43)申请公布日 2021.06.18
(21)申请号 202011457639.4
(22)申请日 2020.12.11
(30)优先权数据
2019-2283
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