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具有静电卡盘的基板处理装置及基板处理方法.pdfVIP

具有静电卡盘的基板处理装置及基板处理方法.pdf

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    基板处理装置的示例包括：腔室；设置在腔室内的上盖；静电卡盘，其包括电介质体的环形部分和嵌入该环形部分中的嵌入电极，该静电卡盘设置在腔室内；以及等离子体单元，配置为在上盖和静电卡盘下方的区域中产生等离子体，其中，环形部分包括位于上盖的紧下方的环形第一上表面和位于上盖的紧下方并围绕第一上表面的第二上表面，第二上表面具有高于第一上表面的高度的高度。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112992639 A (43)申请公布日 2021.06.18 (21)申请号 202011371910.2 (22)申请日 2020.11.30 (30)优先权数据

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