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2023-06-11 发布于四川
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一种掩膜版及光学临近修正的方法.pdf

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本发明实施例公开了一种掩膜版及光学临近修正的方法。其中，掩膜版包括至少一个图形对应区，其中，任一图形对应区包括主区和位于主区周围的至少一个光学临近失真补偿区，主区的透光率、与图形对应区邻接的外围区域的透光率和光学临近失真补偿区的透光率不相等，主区的透光率大于与图形对应区邻接的外围区域的透光率和光学临近失真补偿区的透光率中的较小值，主区的透光率小于与图形对应区邻接的外围区域的透光率和光学临近失真补偿区的透光率中的较大值。本发明实施例提供的技术方案可以高效快速实现补偿失真的曝光图形，且成本低。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112965335 A (43)申请公布日 2021.06.15 (21)申请号 202110215006.0 (22)申请日 2021.02.25 (71)申请人合肥维信诺科技有限公司

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