用于有机膜的平坦化的方法.pdfVIP

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2023-06-11 发布于四川
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本文的技术包括用于使在半导体器件的制造中使用的膜平坦化的方法。这种制造可以在衬底的表面上生成各结构，并且这些结构在该表面上可以具有空间可变的密度。本文的平坦化方法包括在这些结构和该衬底之上沉积第一酸不稳定性膜，该第一酸不稳定性膜填充在这些结构之间。在该第一酸不稳定性膜之上沉积第二酸不稳定性膜。在该第二酸不稳定性膜之上沉积酸源膜，该酸源膜包括生酸剂，该生酸剂被配置为响应于接收到具有预定波长的光的辐射而生成酸。将辐射图案投射在该酸源膜上方，该辐射图案在该辐射图案的预定区域处具有空间可变的强度。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113016054 A (43)申请公布日 2021.06.22 (21)申请号 201980075002.8 丹尼尔 ·富尔福德　 (22)申请日 2019.

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