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一种半导体结构及其形成方法,包括:提供基底,基底包括相邻的第一区与第二区;在基底上形成第一介质层,第一介质层分别位于第一区与第二区上,第一介质层内具有一个或多个第一插塞结构,第一介质层暴露出第一插塞结构的顶部表面;在第一介质层上形成第一导电层,第一导电层位于第二区上;在第一区的第一介质层上、以及第一导电层上形成第二介质层;在第二介质层内形成第二插塞结构,第二插塞结构位于第一区上,第二插塞结构的底部表面与第一插塞结构的顶部表面接触。通过将第一插塞结构与第二插塞结构直接连接,省去了制作字线导电层WL
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 112992822 A
(43)申请公布日
2021.06.18
(21)申请号 20191
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