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2023-06-11 发布于四川
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本申请涉及一种平面研磨机构，包括圆形底板、沿径向方向固定于所述底板上的若干弹性支座及固定于所述弹性支座上方夹具组件，所述弹性支座包括底座、固定于所述底座上方的支撑座及被弹性支撑于所述支撑座上方的承载座，所述夹具组件被固定于所述承载座上，所述支撑座底部中间设有缺口部及上下贯通的若干贯通孔，所述承载座靠近所述支撑座的下表面上设有螺孔，所述弹性支座还包括穿过所述贯通孔并螺合于所述承载座底部的螺孔上的螺栓及套设于所述螺栓外并夹持于所述承载座与所述支撑座之间的弹性件。本申请可有效保持研磨面的平面度。

(19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 112975713 B (45)授权公告日 2022.06.21 (21)申请号 202110227966.9 B24B 41/02 (2006.01) (22)申请日 2021.03

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