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第 7 章 金属-半导体接触
本章讨论与 pn 结特性有很多相似之处的金-半肖特基势垒接触。金-半肖特基势垒接触的整流效应是半导体物理效应的早期发现之一:
§金属半导体接触及其能级图
能脱离金属而逸出体外。要使电子从金属中逸出,必须由外界给它以
00 F m足够的能量。所以,金属中的电子是在一个势阱中运动,如图 7-1 所示。若用 E 表示真空静止电子的能量,金属的功函数定义为E 与 E 能量之差,用W
0
0 F m
增而周期性变化。
2、半导体的功函数
0 S和金属类似,也把E 与费米能级之差称为半导体的功函数,用W
0 S
W ? E ? E
S 0 FS
因为 E
随杂质浓度变化,所以W
是杂质浓度的函数。
一、金属和半导体的功函数1、金属的功函数在绝对零度,金属中的电子填满了费米能级E
一、金属和半导体的功函数
1、金属的功函数
在绝对零度,金属中的电子填满了费米能级E 以下的所有能级,
F
而高于E 的能级则全部是空着的。在一定温度下,只有 E 附近的少数
F
F
电子受到热激发,由低于 E 的能级跃迁到高于E 的能级上去,但仍不
F
F
图 7-1 金属中的电子势阱
W ? E ? E
M
0
FM
它表示从金属向真空发射一个电
子所需要的最小能量。W 越大,
M
电子越不容易离开金属。
金属的功函数一般为几个
电子伏特,其中,铯的最低,为; 铂的最高,为 eV。图 7-2 给出了表面清洁的金属的功函数。图中
可见,功函数随着原子序数的递
图 7-2 一些元素的功函数及其原子序数
导体中电子的最高能级是导带底E 。E 与 E 之间的能量间隔
C
C
0
? ? E ? E
0
C
被称为电子亲合能。它表示要使半导体导带底的电子逸出体外所
图 7-3 半导体功函数和电子亲合能
与金属不同,半导体中费米能级一般并不是电子的最高能量状态。如图7-3 所示,非简并半
需要的最小能量。
利用电子亲合能,半导体的功函数又可表示为
W ? ? ? (E
S C
E )
FS
式中,E =E -E 是费米能级与导带底的能量差。
n C FS
W (eV)S材料
W (eV)
S
材料
(eV)
N (cm-3)
D
N (cm-3)
A
1014
1015
1016
1014
1015
1016
Si
Ge
GaAs
二、有功函数差的金属与半导体的接触
E
把一块金属和一块半导体放在同一个真空环境之中, 0
W
M二者就具有共同的真空静止电子能级,二者的功函数差就 W S E
M
C E
Fm
Fm
是它们的费米能级之差,即 W -W =E -E
。所以,当 E
M S FS FM
(a)
有功函数差的金属和半导体相接触时,由于存在费米能级
之差,二者之间就会有电子的转移。
1、金属与n 型半导体的接触
图7-4 W >W 的金属-n 型半导体接触前
M S
1)W >W 的情况
M S
qV
D
这意味着半导体的费米能级高于金属的费米能级。该系统接触q前后的能带图如右所示。当二
者紧密接触成为一个统一的电子系统,半导体中的电子将向金属转移,从而降低了金属的电势,
(b)
提高了半导体的电势,并在半导体表面形成一层由电离施主构成的带正电的空间电荷层,与流到
金属表面的电子形成一个方向从半导体指向金属的自建电场。由于转移电子在金属表面的分布极 薄,电势变化主要发生在半导体的空间电荷区,使其中的能带发生弯曲,而空间电荷区外的能带
则随同 E 一起下降,直到与金属费米能级处在同一水平上时达到平衡状态,这时不再有电子的
FS
净流动。相对于金属费米能级而言,半导体费米能级下降了 (W -W ),如图 7-4 所示。若以 V
m s D
表示这一接触引起的半导体表面与体内的电势差,显然
qV ? W ? W
D M S
称 V 为接触势或表面势。qV 也就是电子在半导体一边的势垒高度。电子在金属一边的势垒
D D
高度是
q? ? W
M M
? ? (7-9)
以上表明,当金属与n 型半导体接触时,若W >W ,则在半导体表面形成一个由电离施主构
M S
成的正空间电荷区,其中电子浓度极低,是一个高阻区域,常称为电子阻挡层。阻挡层内存在方向由体内指向表面的自建电场,它使半导体表面电子的能量高于体内,能带向上弯曲,即形成电子的表面势垒,因此该空间电荷区又称电子势垒。
2)Wm<Ws 的情况
这时,电子将从金属流向半导体、在半导体表面形成负的空间电荷区。其中电场方向由表面指向体内,能带向下弯曲。这时半导体表面电子浓度比体内大得多,因而是一个高电导区域,称之为反阻挡层。其平衡时的能带图如图7-5 所示。反阻挡层是很薄的高电导层,它对半导体和金属接触电阻的影响是很小的。所以,反阻层与阻挡层不同,在平常的实验中觉察不到它的存
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