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2023-06-12 发布于四川
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一种磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法.pdf

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本发明公开了一种磁控溅射镀膜均匀性调整装置及调整方法，磁控溅射镀膜均匀性调整装置包括：储存惰性气体的储气机构、进气气管和通气气管、真空腔室、靶材，通气气管通过进气气管与储气机构连接，通气气管竖向设于真空腔室内且设置有多个朝向靶材的气孔；若干个气孔的高度位置不同，还包括用于根据被镀基材的膜厚控制不同高度位置的气孔的气流量的控制机构。本发明提供的磁控溅射镀膜均匀性调整装置的结构简单，使用方便，可以对磁控溅射过程中不同高度位置的气体流量进行灵活调节；且不会出现膜层堆叠，允许电场和磁场的均匀性以及靶材与

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113046710 A (43)申请公布日 2021.06.29 (21)申请号 202110254632.0 (22)申请日 2021.03.09 (71)申请人蓝思科技（长沙）有限公司

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