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用于电光调制器的电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件.pdfVIP

用于电光调制器的电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件.pdf

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    本申请提供的用于电光调制器的电光晶体薄膜、制备方法及电子元器件，在层叠有电极层的衬底层上制备目标凹槽阵列；将电光晶体基片进行离子注入、并切割成电光晶体切片；将各个电光晶体切片转移至目标凹槽阵列中对应的凹槽内、且与目标凹槽阵列中对应的凹槽内的隔离层键合，得到键合体；对所述键合体进行热处理，得到电光晶体薄膜。本申请保留在各个凹槽内的电光晶体薄膜层形成光波导结构，通过由电极形成的凹槽控制光波导的光信号，从而实现电光调制功能。同时，本申请只在衬底层被刻蚀的区域上形成隔离层，而不是在衬底层与电极层之间夹一

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113050307 B (45)授权公告日 2022.05.31 (21)申请号 202110260364.3 G02F 1/035 (2006.01)

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