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光学邻近修正方法及系统、掩模版、设备与介质.pdfVIP

光学邻近修正方法及系统、掩模版、设备与介质.pdf

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    本发明提供一种光学临近邻近修正方法及系统、掩模版、设备与介质，所述光学邻近修正方法包括：提供原始版图图形，所述原始版图图形包括相临的第一图形和第二图形，提取第一图形中第一端部的第一中心点，以及第二图形中第二端部的第二中心点，并以第一中心点和第二中心点的连线为斜边，建立直角三角形，取直角三角形中，斜边与第二直角边的最小长度，计算得到第一直角边的最小长度；根据第一直角边的最小长度，得到所述预补偿修正间隙的最小宽度；根据预补偿修正间隙的最小宽度，在原始版图图形上添加预补偿修正间隙，得到修正后版图。本发

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113050365 A (43)申请公布日 2021.06.29 (21)申请号 20191

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