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本发明公开了一种光学强度调制元件、结构设计方法及光学整形系统，属于光学显微成像领域，元件包括：不透光掩膜板和透光单元；不透光掩膜板中刻蚀有多个同心环空心结构，透光单元包括多个与同心环空心结构一一对应的同心透光环，每一同心透光环填充在对应同心环空心结构中；多个同心透光环对线光源的强度分布进行调制以得到分段线光源，分段线光源经过多级干涉叠加后汇聚成低旁瓣类贝塞尔光束。这种元件能够降低类贝塞尔光束的旁瓣效应，并能通过调节多个同心透光环的内径和外径，以在光片厚度和瑞利距离满足需求的前提下得到最小旁瓣比例
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113050290 B
(45)授权公告日 2022.05.20
(21)申请号 202110273446.1 审查员 吴杏
(22)申请日 2021.03.12
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