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二次谐波产生(SHG)可以用于询问诸如半导体晶片上的层状半导体结构的表面之类的表面。在某些情况下，SHG用于评估诸如金属和氧化物之间的界面区域。多种参数(例如输入偏振、输出偏振和入射光束的方位角)可能影响SHG信号。因此，对于晶片上的不同类型的图案，这些参数存在差异。多种测试结构上的SHG计量也可以辅助表征样品。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113056814 A
(43)申请公布日 2021.06.29
(21)申请号 201980043920.2 (74)专利代理机构 北京三高永信知识产权代理
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