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均匀地对溅射靶（14）进行溅射。在阴极电极（21）的单面配置有溅射靶（14），在相反的一侧的面平行地配置有多个磁铁装置（301、311~314、302）。在磁铁装置（301、311~314、302）的两端配置有可变磁场（47），所述可变磁场（47）具有将基础磁力部（71）形成的磁场和电磁铁部（73）形成的磁场合成后的磁场，通过控制在电磁铁部（73）中流动的励磁电流的朝向和大小，从而控制在电磁铁部（73）形成的磁极的极性和磁场强度，使可变磁铁（47）形成的磁场强度由于进行了溅射的成膜对象物（13）
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113056573 A
(43)申请公布日 2021.06.29
(21)申请号 202080006532.X (74)专利代理机构 中国专利代理(香港)有限公
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