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本发明公开了一种高功率半导体激光器的散热装置,包括:相对安装的上层水冷板和下层水冷板;上层水冷板上安装有多个半导体激光器;上层水冷板与下层水冷板的接触面处设有封闭的流体通道,流体通道根据多个半导体激光器的位置曲线布设,流体通道在高水压区域设置湍流缓冲仓,高水压区域包括进水口区域以及拐角处;下层水冷板上设有进液口和出液口,进液口与流体通道的一端相连,出液口与流体通道的另一端相连。本发明可实现对多个高功率半导体激光器的均匀散热,避免水冷板受冷却液冲击产生形变,降低流体通道内气泡的生成;从而保证激光器
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113054527 A
(43)申请公布日 2021.06.29
(21)申请号 202110282688.7
(22)申请日 2021.03.16
(71)申请人 北京工业大学
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