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本发明提供一种基于多级偏最小二乘算法的光谱分析方法及系统,属于光谱分析技术领域,采集样品的多个不同温度下的光谱;对采集的光谱进行滤波预处理;利用滤波预处理后的光谱,结合多级偏最小二乘算法,构建分析模型;利用分析模型进行光谱温度预测和样品浓度预测,实现光谱温度校正,对不同温度扰动下的样品光谱进行分析。本发明可对温度和浓度引起的光谱变化进行分离,分别建立温度间模型和温度内模型,温度间模型可成功预测光谱温度,温度内模型则可用于预测浓度,消除了近红外光谱建模时的温度干扰。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113030012 B
(45)授权公告日 2022.05.17
(21)申请号 202110361714.5 G06F 17/18 (2006.01)
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