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一种光学邻近修正方法及掩膜版的制作方法，包括：提供目标版图，所述目标版图包括若干目标图形；对目标版图进行第一曝光处理，获取第一曝光版图，所述第一曝光版图包括若干与所述目标图形相对应的第一曝光图形；获取每个所述目标图形对应的可容忍最大误差值；根据每个所述目标图形的可容忍最大误差值，获取目标版图与所述第一曝光版图之间的第一均方差值；当所述第一均方差值在均方差阈值范围之外时，对所述目标版图进行第一修正处理，获取第一修正版图。本发明的技术方案中，通过引入每个所述目标图形的可容忍最大误差值，来改变各所述目
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113050368 A
(43)申请公布日
2021.06.29
(21)申请号 20191
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