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【技术问题】在使气体供给通路的下游侧分支来对处理容器供给气体时，能够以简单结构防止气体从气体供给通路泄露。【技术手段】一种气体供给装置，其包括：对处理容器内进行排气来形成真空气氛的排气机构；气体供给通路，其包括从气体供给源供给气体的上游侧流路和该上游侧流路的下游侧分支为多个而形成的分别连接到处理容器的多个分支通路；第1阀，其开度可变但不能全闭，为了将供给到上游侧流路的气体向多个分支通路分流而分别设置于该分支通路；第2阀，其设置于上游侧流路，向下游侧供给气体或停止气体供给；检测处理容器内的压力的压
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113056962 A
(43)申请公布日 2021.06.29
(21)申请号 201980075623.6 (74)专利代理机构 北京尚诚知识产权代理有限
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