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本申请公开一种半导体加工设备，包括反应腔室以及门组件，门组件设置于反应腔室的设有排气口的一端，反应腔室上设有用于阻碍工艺气体泄露的密封腔，密封腔通过引入惰性气体，以使密封腔内的气体压力大于反应腔室内的气体压力；排气口用于排出反应腔室中通入的工艺气体以及密封腔内的惰性气体。本申请不仅能够阻止工艺气体(例如HCl气体)从反应腔室内逸出而腐蚀设备，还能够避免外部气体或金属颗粒等进入反应腔室内，且密封性能不受高温影响而下降。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113053785 A
(43)申请公布日 2021.06.29
(21)申请号 202110232610.4
(22)申请日 2021.03.02
(71)申请人 北京北方华创微电子装备有限公司
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