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本发明提供了一种光阻涂布的方法，包括将晶圆真空吸附在承片台上；所述承片台先以速度为20‑200r/s的第一速度旋转然后以速度为1000‑3000r/s的第二速度旋转，同时胶嘴对所述晶圆中心进行打胶；停止所述打胶，然后所述承片台以第三速度旋转，以对所述晶圆进行打胶回流，所述第三速度大于0，且小于所述第二速度；所述承片台以第四速度旋转，使光阻在所述晶圆表面成膜，以完成所述光阻涂布，所述第四速度大于所述第一速度和所述第三速度。所述承片台先以速度为20‑200r/s的第一速度旋转然后以速度为1000‑3
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113050377 A
(43)申请公布日
2021.06.29
(21)申请号 20191
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