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本文描述的实施例提供了用于在等离子体辅助处理基板期间控制毗邻基板的圆周边缘的处理结果分布的方法和设备。在一实施例中,基板支撑组件具有第一底板和围绕第一底板的第二底板的特征。第一底板和第二底板均具有设置在其中的一个或更多个相应的第一冷却和第二冷却。基板支撑组件的特征进一步具有设置在第一底板上并与第一底板热耦合的基板支撑件以及设置在第二底板上并与第二底板热耦合的偏压环。在此,基板支撑件和偏压环均由介电材料形成。基板支撑组件进一步包括:边缘环偏置电极,其嵌入偏压环的介电材料中;以及边缘环,其设置在偏压
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113039626 A
(43)申请公布日 2021.06.25
(21)申请号 202080006038.3 (74)专利代理机构 上海专利商标事务所有限公
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