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2023-06-13 发布于四川
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本发明涉及一种提高硅片表面清洗能力的洗净装置及其控制方法，所属硅片洗净设备技术领域，包括清洗槽，所述的清洗槽上方设有上机架，所述的清洗槽内设有清洗组件，所述的清洗组件与上机架间设有升降气缸，所述的升降气缸与上机架间设有旋转电机。所述的清洗组件包括片盒，所述的片盒内设有若干呈等间距分布的硅片，所述的硅片上部两端设有与片盒呈一体化的上挡板，所述的硅片下部两端设有与片盒呈一体化的下挡板。具有结构简单、清洗效果好、运行稳定性高和使用寿命长的特点。解决了硅片表面存在被机械擦伤的问题。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113058926 A (43)申请公布日 2021.07.02 (21)申请号 202110361901.3 (22)申请日 2021.04.02 (71)申请人杭州中欣晶圆半导体股份有限公司

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