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一种超黑高性能Ti-DLC涂层的制备工艺.pdfVIP

一种超黑高性能Ti-DLC涂层的制备工艺.pdf

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    本发明涉及一种超黑高性能Ti‑DLC涂层的制备工艺，包括将工件置于真空腔室内，对真空腔室进行抽气处理，抽气处理后对真空腔室和/或工件进行除杂处理，除杂处理后向真空腔室内充入Ar，采用中频电源孪生Ti靶在工件的表面制备打底层，打底层制备好后，向真空腔室内增加充入C2H2，在打底层上制备过渡层，制备过渡层的过程中按照需求调控过渡层制备参数进行变化，调控变化的过渡层制备参数包括Ar充入量、C2H2充入量、工件偏压、Ti靶材电压中的一者或几者；过渡层制备好后，保持各过渡层制备参数稳定继续镀膜，从而在过渡

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113061845 B (45)授权公告日 2023.04.07 (21)申请号 202110298324.8 C23C 14/02 (2006.01)

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