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本发明涉及一种在通过刻蚀被处理对象来制造光掩模时使用的外掩模,所述外掩模包括:基部,其呈板形,并在中心区域具有开口;和框架部,其呈框架形,沿着所述基部的第1面的外周边缘向所述基部的厚度方向突出地设置,仅在所述被处理对象的设置有图案部的第2面的四个角处,所述框架部能够与所述第2面接触。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113097046 A
(43)申请公布日 2021.07.09
(21)申请号 202110251327.6 H01L 21/3065 (2006.01)
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