基于半导体基底飞秒光制备微纳结构实现超疏水功能的方法.pdfVIP

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2023-06-13 发布于四川
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基于半导体基底飞秒光制备微纳结构实现超疏水功能的方法.pdf

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基于半导体基底飞秒光制备微纳结构实现超疏水功能的方法，属于表面改性技术领域。包括以下步骤：采用热蒸镀法或磁控溅射法在半导体材料表面镀金属膜；利用飞秒激光加工技术通过在半导体金属镀膜表面制备微纳结构，提高半导体表面粗糙度，进而形成复合界面，在半导体材料和液体之间形成空气层，最终实现超疏水功能。传统的疏水结构一般是在金属表面、石英玻璃、TiO2或聚乙烯薄膜上制备得到，表面的机械稳定性差，固体和液体之间的气穴极易被液体充满。在苛刻的环境(例如碱性、酸性和盐溶液)中，将迅速失去其性能。利用飞秒激光加工技

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113059269 A (43)申请公布日 2021.07.02 (21)申请号 202110421345.4 (22)申请日 2021.04.19 (71)申请人北京工业大学地址

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