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鳍片高度的确定方法、装置、系统、设备以及介质.pdfVIP

鳍片高度的确定方法、装置、系统、设备以及介质.pdf

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    本发明提供了一种鳍片高度的确定方法、装置、系统、设备以及介质，其中鳍片高度的确定方法，包括：获取第一栅极结构的第一电阻信息，以及第二栅极结构的第二电阻信息，所述第一栅极结构设于对应的隔离层与鳍片上，所述第二栅极结构设于对应的隔离层上；所述第一栅极结构与所述第二栅极结构的电阻率均为目标电阻率，且所述第一栅极结构与所述第二栅极结构相对于对应隔离层的高度相同；根据所述第一电阻信息与所述第二电阻信息，确定所述第一栅极结构中鳍片的高度；测量结构简单，且测量方便；同时，电阻信息的测量可以覆盖单个晶体管或多个

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113066734 B (45)授权公告日 2022.08.16 (21)申请号 202110254915.5 G01B 7/06 (2006.01)

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