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本发明属于光束质量因子M2测量技术领域，并具体公开了一种光束质量因子M2快速测量装置及方法。所述装置包括待取样装置、变焦装置、光斑测量装置和数据处理装置，根据所述变焦装置的焦距以及所述变焦装置在不同焦距下所述光斑测量装置实时采集和测量的光斑大小计算待测激光源的光束质量因子M2。所述方法包括：待测激光源发射激光，将激光进行衰减；对衰减后的激光进行聚焦，在连续变焦过程中实时采集和测量焦点处激光光斑大小，计算待测激光源的光束质量因子M2。本发明克服了传统M2测量设备需要驱动反射镜组进行大行程位移导致测
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113092070 A
(43)申请公布日 2021.07.09
(21)申请号 202011404810.5
(22)申请日 2020.12.04
(71)申请人 武汉光谷航天三江激光产业技术研
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