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本发明公开了一种OLED的IMITO结构，包括玻璃基板、消影层和导电层，所述消影层设置在导电层与玻璃基板之间，消影层设置在玻璃基板上，导电层设置在消影层上。消影层包括TiO2膜层和SiO2膜层，TiO2膜层设置在玻璃基板上，SiO2膜层设置在TiO2膜层上，导电层设置在SiO2膜层上。本发明通过在ITO膜层下镀TiO2、SiO2材料达到消影的目的，即通过消影(IMITO)技术提升OELD的显影和视觉效果。本发明还公开了一种OLED消影镀膜方法，包括原材料清洗、TiO2镀膜、SiO2镀膜、ITO镀
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113066942 A
(43)申请公布日 2021.07.02
(21)申请号 202110295440.4 C23C 14/35 (2006.01
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