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本发明公开了一种正弦光栅的制备方法,该方法包括:在衬底的上表面依次沉积粘附膜层和第一贵金属膜层;在第一贵金属膜层表面涂覆光刻胶,利用光刻技术制作正弦光栅光刻胶掩模图形;在第一贵金属膜层中未覆盖有光刻胶的表面电镀第二贵金属膜层;去除正弦光栅光刻胶掩模图形的光刻胶;刻蚀衬底上表面的粘附膜层和第一贵金属膜层,得到正弦光栅模板;将正弦光栅模板放入由氢氟酸与氧化剂组成的刻蚀液中,进行金属催化刻蚀,得到正弦光栅;对正弦光栅进行清洗、干燥。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113064227 B
(45)授权公告日 2022.07.19
(21)申请号 202110307016.7 (56)对比文件
(22)申请日 2021.03.23
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