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本发明公开了一种光刻胶排泡装置,属于半导体制造技术领域,包括壳体、进胶管、气泡过滤装置、防护筒和出胶管,所述壳体沿竖直方向设置,所述壳体的上端设置有泄气装置,所述壳体的下端分别开设有进胶口和出胶口,所述进胶管出口端沿所述进胶口插入所述壳体内且向上延伸至壳体内侧上部,所述出胶管的进口端设置在所述壳体的底部,所述气泡过滤装置位于所述进胶管的出口处,所述防护筒的上端与所述壳体固定,所述防护筒的下端开口且罩设在所述气泡过滤装置和进胶管的外侧,所述防护筒的下端与壳体的底部相隔。本发明装置用于设置在光刻胶的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113075864 A
(43)申请公布日 2021.07.06
(21)申请号 202110354285.9
(22)申请日 2021.04.01
(71)申请人 叶建蓉
地址 404
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