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本发明属于半导体技术领域,具体提供一种氧化物基耗尽型负载反相器的制备方法,用以解决现有耗尽型负载反相器存在的制备工艺复杂、稳定性低、生产成本高等问题。本发明采用负载管(耗尽型晶体管)与驱动管(增强型晶体管)的栅介质层单独制备、氧化物半导体层一步制备的工艺,通过负载管与驱动管的栅介质层制备过程中的氧气含量的控制,实现负载管与驱动管的阈值电压的单独调节,使驱动管的阈值电压为正值、负载管的阈值电压为负值,进而构成氧化物基耗尽型负载反相器。本发明方法制备得氧化物基耗尽型负载反相器的氧化物半导体层一步制备
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113078112 B
(45)授权公告日 2023.03.31
(21)申请号 202110335300.5 审查员 李晨雪
(22)申请日 2021.03.29
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