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结构体的制造方法和结构体的制造装置.pdfVIP

结构体的制造方法和结构体的制造装置.pdf

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    结构体的制造方法具有如下工序：准备至少表面由III族氮化物晶体构成的直径2英寸以上的晶圆的工序；在容器内准备包含过二硫酸根离子作为接受电子的氧化剂的碱性或酸性的蚀刻液的工序；以晶圆表面与蚀刻液表面平行的方式，将晶圆以晶圆的表面浸渍于蚀刻液中的状态收纳在容器内的工序；以及，不搅拌蚀刻液，将光从前述蚀刻液的表面侧照射至晶圆表面的工序，在晶圆的表面划定出彼此隔开配置的第一被蚀刻区域和第二被蚀刻区域，在将光照射至晶圆表面的工序中，对第一被蚀刻区域和第二被蚀刻区域的表面分别垂直地照射光。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113068413 B (45)授权公告日 2022.06.28 (21)申请号 201980067937.1 (72)发明人 堀切文正　 (22)申请日 2019.10.17

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