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本发明涉及真空压力控制系统。在能够容易地计算为了使真空室的压力值为目标值而需要的真空控制阀的最佳阀开度的真空压力控制系统中,控制装置(70)包括映射程序(702a),在进行压力值控制前,该映射程序(702a)使真空室(11)内的压力值与工艺气体的流量的关系近似于一次函数(LF11)~(LF20),使一次函数(LF11)~(LF20)存储到控制装置(70)中,该控制装置(70)包括阀开度计算程序(702b),在进行压力值控制前,在基于一次函数(LF11)~(LF20)供给工艺气体的规定的流量时,该
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113062989 A
(43)申请公布日 2021.07.02
(21)申请号 202011460261.3 F16K 37/00 (2006.01)
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