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极片及电化学装置和电子装置.pdfVIP

极片及电化学装置和电子装置.pdf

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    本发明提供一种极片及电化学装置和电子装置，所述极片包括集流体，所述集流体的至少一个表面具有功能涂层和无涂层区域，所述功能涂层具有功能区域、以及由所述功能区域向所述无涂层区域延伸的延伸区域，所述延伸区域的最小厚度大于0且其最大厚度小于所述功能区域的厚度。本发明能够缓解极片上功能涂层与无涂层区域之间的过渡区域处的集流体应力集中问题，提高集流体的力学性能及电流导通效果，进而提高电化学装置的循环性和安全性等品质。

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113078284 B (45)授权公告日 2022.08.26 (21)申请号 202110320955.5 H01M 10/0525 (2010.01) (22)申请日 2021.

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