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成膜装置和成膜方法.pdfVIP

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本发明提供成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括:靶保持件,其以靶朝向基板且靶沿水平面内的预定的方向延伸的方式在正面保持靶;磁体单元,其具有通过排列磁体而构成的磁体排列体,设于靶保持件的背面侧;一对遮蔽构件,其在被靶保持件保持的靶与基板之间以自靶朝向基板延伸的方式设置;和移动机构,其使磁体单元以在被靶保持件保持的靶的预定的方向上的一端与另一端之间进行往复运动的方式移动,磁体单元以磁体排列体沿着预定的方向并列的方式设有一对,遮蔽构件分别在俯视时设于在磁体单元进行往复运动的期间内一对磁体排列体中的仅一者

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113088903 A (43)申请公布日 2021.07.09 (21)申请号 202011614942.0 C23C 14/54 (2006.01)

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