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本发明涉及一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备，包括模头、输料管线、计量挤出机、过滤器、混合容器、直流电机、电子元件、控制系统、计量泵和聚酯铸片。该一种偏光片保护膜用基膜制备工艺及设备，其生产出来的基膜产品具有优良的光学表观性能，保护膜表面无异物、白点、蹭伤、折痕等缺陷，方便在不去除保护膜的情况下进行偏光片表观测试，同时防止各种缺陷对TAC膜的损伤和污染，耐候性及持粘力稳定性，经数日或更久剥离力增长不明显，易于撕去且被保护表面无残胶，无留影，保护膜对被保护表面具有良好的粘附性能，在材料搬运或加工
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113071122 A
(43)申请公布日 2021.07.06
(21)申请号 202110368740.0
(22)申请日 2021.04.06
(71)申请人 山东胜通光学材料科技有限公司
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