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2023-06-14 发布于四川
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一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统.pdf

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本发明公开了一种基于AOI系统的掩模版缺陷检测方法及系统，先扫描待检测的Mask基板得到Mask基板扫描图形，对Mask基板扫描图形进行初步缺陷标记获得初步缺陷点位信息；再根据初步缺陷点位信息对每个初步缺陷点位进行复检，筛选出超标假缺陷点位并判断假缺陷点位数量是否超标，若是，则根据假缺陷点位的类型进行假缺陷点位筛除；最后保留记录缺陷点位信息；本发明对Mask基板的上版位置、关键工艺参数以及设备状态等多个方面全面分析了掩模版AOI假缺陷的产生原因，并针对三类假缺陷分别提出切实有效的改善对策，整体上

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113138529 A (43)申请公布日 2021.07.20 (21)申请号 202110443916.4 (22)申请日 2021.04.23 (71)申请人成都路维光电有限公司

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