液体供应单元及用于处理基板的装置和方法.pdfVIP

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2023-06-14 发布于四川
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液体供应单元及用于处理基板的装置和方法.pdf

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一种用于处理基板的装置，包括：壳体；支撑单元，其在壳体中支撑基板；喷嘴，其将处理液分配到基板上；和液体供应单元，其将处理液供应至喷嘴。液体供应单元包括：容器，其具有储存处理液的储存空间；液体供应管，处理液通过该液体供应管从容器流至喷嘴；和超声波施加构件，其在处理液被供应至喷嘴之前向处理液施加超声波。超声波施加构件包括：储液器，其具有容纳液体的内部空间；和超声发生器，其向容纳在储液器中的液体施加超声波。液体供应管的一部分浸没在容纳于储液器中的液体中。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113130350 A (43)申请公布日 2021.07.16 (21)申请号 202011529351.3 (22)申请日 2020.12.22 (30)优先权数据 10-2019-0

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