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一种用于处理基板的装置,包括:壳体;支撑单元,其在壳体中支撑基板;喷嘴,其将处理液分配到基板上;和液体供应单元,其将处理液供应至喷嘴。液体供应单元包括:容器,其具有储存处理液的储存空间;液体供应管,处理液通过该液体供应管从容器流至喷嘴;和超声波施加构件,其在处理液被供应至喷嘴之前向处理液施加超声波。超声波施加构件包括:储液器,其具有容纳液体的内部空间;和超声发生器,其向容纳在储液器中的液体施加超声波。液体供应管的一部分浸没在容纳于储液器中的液体中。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113130350 A
(43)申请公布日 2021.07.16
(21)申请号 202011529351.3
(22)申请日 2020.12.22
(30)优先权数据
10-2019-0
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