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本发明提供一种化学机械抛光液，包括二氧化硅研磨颗粒、腐蚀抑制剂、络合剂、氧化剂、金属表面缺陷改善剂、磷酸酯类表面活性剂和水。本发明的化学机械抛光液可应用于金属铜互连的抛光，对铜的去除速率高，对钽的去除速率低，从而具有较高的铜/钽去除速率选择比，改善抛光后铜线的碟型凹陷和介质层凹陷，同时改善抛光后铜表面粗糙度，减少缺陷。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113122142 A
(43)申请公布日
2021.07.16
(21)申请号 20191
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