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本发明提供了一种纳米压印方法，包括以下步骤：S1，衬底准备；S2，在所述衬底的表面整面旋涂光刻胶；S3，使用掩膜版，对所述光刻胶进行曝光处理，所述掩膜版上设有透光区，所述衬底上正对所述透光区的区域为需要压印图案区域；S4，使用显影液将曝光后的光刻胶清除，以使正对所述透光区的光刻胶在显影后露出衬底表面；S5，在除胶后的区域进行UV胶填充；S6，使用模具对UV胶的表面进行紫外压印，所述模具朝向UV胶的一面、对应UV胶的位置设有微结构；S7，待步骤S6压印成型后，进行脱模；S8，使用显影液将UV胶外围
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113126428 A
(43)申请公布日 2021.07.16
(21)申请号 202110502999.X
(22)申请日 2021.05.10
(71)申请人 上海悠睿光学有限公司
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