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2023-06-14 发布于四川
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拍摄装置位置校正系统及方法.pdf

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本发明实施例涉及半导体光刻技术领域，公开了一种拍摄装置位置校正系统及方法，所述拍摄装置位置校正系统包括：拍摄装置、距离感测装置、距离调整装置以及控制装置；拍摄装置用于拍摄光罩图像，并将光罩图像发送至控制装置，其中，拍摄装置在理论位置拍摄的光罩图像能够通过控制装置提取出光罩标识；距离感测装置用于感测拍摄装置的实际位置，并将实际位置发送至控制装置；控制装置用于接收光罩图像，并判断光罩图像中是否能够提取出光罩标识，在判定不能提取光罩标识时，根据实际位置与理论位置的偏移量控制所述距离调整装置移动所述拍摄

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113132621 B (45)授权公告日 2022.04.26 (21)申请号 202010027151.1 JP 2006073932 A,2006.03.16 (2

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