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本发明公开一种低电容高压放电管,N型硅片两面设有N+隔离区,N型硅片两面设有P‑BASE区,N型硅片和P‑BASE区上有P++区,P‑BASE区上方P++区和N+隔离区之间有P‑BASE区中N+区,N型硅片两面两边上设有玻璃钝化层,并在玻璃钝化层上湿法腐蚀出沟槽,N型硅片上的P‑BASE区上沉淀有金属层,金属层两侧的P‑BASE区设有氧化层和LTO层。步骤:1)选择N型硅片;2)氧化;3)N+隔离区;4)形成P++肼区;5)形成P‑BASE区;6)进行P‑BASE区中N+区光刻;7)台面光刻,腐
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113161427 A
(43)申请公布日 2021.07.23
(21)申请号 202011370830.5
(22)申请日 2020.11.30
(71)申请人 江苏吉
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