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本发明提供一种低缺陷位错密度的大尺寸碳化硅单晶生长用籽晶。其特征为:1、大尺寸碳化硅单晶生长用籽晶在生长面(C面)上被一层同质外延层覆盖;2、该籽晶在C面过渡外延层前需要双面抛光、C面CMP。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113122922 A
(43)申请公布日 2021.07.16
(21)申请号 202010517681.4
(22)申请日 2020.06.09
(71)申请人 北京世纪金光半导体有限公司
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