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本发明提供一种调整光刻局部图形尺寸的方法，提供光罩，该光罩曝光后局部图形的线宽为CD0；确定该局部图形的新的目标线宽CDt，则需要修改的线宽△CD＝CD0‑CDt；确定该图形所在的局部区域的大小及位置；在光罩的所述局部区域制作遮光层，使得该光罩曝光后图形的线宽为CDt。本发明通过在原有光罩上添加整体或局部遮光度可调的遮光材料，来调整光罩不同区域的照明强度，使曝光所得局部图形目标尺寸可按需求调整，为光罩的重复利用提供了诸多可能，大大降低制程开发中重出光罩所带来的高额经济成本、时间成本，避免资源浪费
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113126427 A
(43)申请公布日 2021.07.16
(21)申请号 202110330176.3
(22)申请日 2021.03.29
(71)申请人 上海华力集成电路制造有限公司
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