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本发明涉及一种陶瓷涂层制备方法,具体涉及一种纳米TiB2涂层的制备方法。本发明的目的是解决现有TiB2涂层制备方法存在采用化学气相沉积法时,BCl3对设备及管路的腐蚀性极强,导致成本高、难度大,而采用渗Ti和B的包埋法时,涂层结构致密度差,表面粗糙度大,涂层易残留杂质元素,降低了涂层高温性能的技术问题。通过化学沉积法在样件表面沉积TiC涂层;将沉积有TiC涂层的样件和BN粉料均加入石墨坩埚中,使BN粉料将沉积有TiC涂层的样件完全覆盖;在Ar气氛或Ar和O2的混合气氛或Ar、O2和H2的混合气氛
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113120915 A
(43)申请公布日 2021.07.16
(21)申请号 202110442214.4
(22)申请日 2021.04.23
(71)申请人 西北核技术研究所
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