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本发明揭示了一种全角度陷光绒面及晶硅太阳能电池的制备方法,所述全角度陷光绒面的制备方法包括:S1、采用碱刻蚀制绒工艺,在单晶硅片表面形成正金字塔结构绒面;S2、在制绒后的单晶硅片表面沉积介质层;S3、采用湿法沉积工艺,在介质层表面沉积金属纳米颗粒;S4、采用退火工艺,对金属纳米颗粒进行修饰以形成金属掩膜颗粒;S5、采用等离子体刻蚀工艺,以金属掩膜颗粒作为掩膜,对单晶硅片表面的介质层进行等离子体刻蚀;S6、去除介质层表面残留的金属掩膜颗粒,形成全角度陷光绒面。本发明在具有正金字塔结构绒面的硅片上,
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113113500 B
(45)授权公告日 2022.07.08
(21)申请号 202110383960.0 H01L 31/18 (2006.01)
(22)申请日 2021.04
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