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本发明公开了一种在真空束源腔中精密调节束源方向和位置的束源操纵装置,所述装置位于真空束源腔中,所述装置包括:L型支架(1)、支架底座(2)、电动精密旋转台(3)、电动精密二维移动平台(4)、超声射流脉冲阀(7)、点光源红外线激光定位器(8)、垂直定位光电二极管(9)、准直器(10)和水平定位光电二极管(11)。本发明在不破坏腔体高真空环境的前提下,一方面通过电动精密旋转台实现束源垂直和水平两种方向的可逆调节,利用电动精密二维移动平台在两个方向独立调节束源位置;另一方面,通过开腔定位好的点光源红外
(19)国家知识产权局
(12)发明专利
(10)授权公告号 CN 113117606 B
(45)授权公告日 2022.07.15
(21)申请号 202110592242.4 (56)对比文件
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