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一种用于处理基板的装置包括:壳体,具有处理基板的处理空间;支撑单元,在处理空间中支撑基板;喷嘴,将化学物质分配到基板上;化学物质供应单元,将化学物质供应到喷嘴;以及控制器,控制化学物质供应单元。化学物质供应单元包括:罐,具有储存化学物质的内部空间;传感器,检测储存在罐中的化学物质的剩余量;入口管线,将化学物质从化学物质供应源供应到罐;出口管线,将化学物质从罐供应到喷嘴;以及排放管线,排出罐中的化学物质。在化学物质保留在罐中的状态下,当由传感器检测到的剩余量达到第一预设量或更少时,控制器控制化学物
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113130351 A
(43)申请公布日 2021.07.16
(21)申请号 202011609935.1
(22)申请日 2020.12.30
(30)优先权数据
10-2019-0
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