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使用灰度光刻形成三维结构.pdfVIP

使用灰度光刻形成三维结构.pdf

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    形成三维结构包括在层上施加光致抗蚀剂以及使用光刻系统曝光光致抗蚀剂。光刻系统包括其上具有图案的光掩模，其中图案在光掩模的表面上提供变化的图案密度，并且具有小于光刻系统的分辨率的间距。该方法包括随后显影光致抗蚀剂，使得保留在该层上的光致抗蚀剂具有由光掩模限定的三维轮廓。各向同性蚀刻剂被用于蚀刻该层，使得该光致抗蚀剂的三维轮廓转移到该层。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113168113 A (43)申请公布日 2021.07.23 (21)申请号 201980078329.0 (74)专利代理机构 北京市柳沈律师事务所

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